技术

原子探针层析成像（APT）是一种纳米级材料分析技术，可提供3D（三维）空间成像和化学成分测量，且灵敏度高。

俄歇分析或俄歇电子能谱是一种表面敏感的分析技术，可用于对小表面特征进行元素分析。

EBIC（电子束感应电流）是一种 扫描电子显微镜（SEM）用于半导体器件的基于技术的技术

与我们联系有关能量色散X射线光谱（EDS）的技术，这是一种结合SEM，TEM和STEM以确定元素组成的分析技术。

电子能量损失光谱（EELS）是一种在与纳米级结合时提供纳米级元素信息的技术 透射电子显微镜（TEM）和扫描透射电子显微镜（STEM）.

聚焦离子束（FIB）使用精细聚焦的离子束对样品进行修饰和成像，以制备EAG Laboratories的SEM，STEM和TEM。

傅里叶变换红外光谱（FTIR）是一种有效的分析技术，可以快速识别物质的“化学族”

与EAG联系以获得需要GC-MS，气相色谱-质谱联用，可靠和专业解释的分析测试外包实验室服务

联系EAG获得辉光放电质谱（GDMS）服务，以确定无机固体样品，金属，合金，石墨的化学成分

凝胶渗透色谱（GPC）是一种分析技术，用于表征各种各样的 聚合物 或混合物中的其他大分子。

电感耦合等离子体（ICP-MS）分析技术可以定量测量几乎所有元素的元素含量。

仪器气体分析（IGA）可测量固体材料中存在的气体形成元素（C，H，O，N和S），其含量从ppm到百分比水平。

液相色谱与串联质谱（LC-MS-MS）是一种强大的分析技术，它结合了液相色谱的分离能力和三重四极杆质谱的高灵敏度和选择性质量分析能力。

卢瑟福背散射光谱法（RBS）是一种用于成分薄膜分析的离子散射技术。

为了消除由化学反应（腐蚀）引起的微电子部件的故障，必须知道该部件的内部气体成分。

依靠EAG在扫描电子显微镜或SEM上对表面和近表面的高分辨率和高景深图像的多年专业知识。

联系EAG进行二次离子质谱（SIMS）分析，以检测掺杂剂，杂质以及精确的浓度层结构鉴定

EAG的透射电子显微镜和扫描透射电子显微镜（STEM）使在纳米级进行化学分析成为可能。

飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）是一种表面分析技术，可将脉冲的初级离子束聚焦到样品表面，在溅射过程中产生二次离子.

全反射X射线荧光（TXRF）利用抛光晶片表面的极低角度X射线激发来获得表面金属污染物的浓度。

UV / VIS / NIR光谱是一种强大的分析技术，用于确定液体和固体的光学性质（透射率，反射率和吸光度）。 它可用于表征半导体材料，涂层，玻璃和许多其他研究和制造材料

X射线光电子能谱（XPS光谱） 也称为化学分析电子能谱 (ESCA). X射线光电子能谱 用于确定定量的原子组成和化学。

X射线反射率（XRR）是一种与X射线衍射（XRD）相关的技术，正成为一种广泛使用的工具。 描述 薄膜和多层结构.

X射线衍射（XRD）是一种用于表征结晶材料的强大的非破坏性技术。

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