X射线光电子能谱(XPS光谱)
WE KNOW HOW™
X射线光电子能谱(XPS光谱) 也称为化学分析电子能谱 (ESCA). X射线光电子能谱 用于确定定量的原子组成和化学。 这是一个 表面分析 采样体积从表面延伸到大约 50-100 Å 的深度的技术。 XPS 光谱也可用于溅射深度分析。 这对于通过将矩阵级元素量化为深度的函数来表征薄膜很有用。
XPS光谱学是一种元素分析技术。 这在提供被检测元素的化学状态信息方面也很独特。 很好的用途是区分硫酸的硫酸盐形式和硫化物形式。 该过程通过向样品照射 单色X射线。 这导致光电子的发射,其能量是采样空间内元素的特征。
XPS光谱仪是我们的一部分 智能图表系列. XPS 光谱可以检测和量化除 H 和 He 之外的所有元素,并提供化学状态信息,使其成为一种强大的调查分析技术。
X 射线穿透样品几微米深并迫使电子离开样品。 因此,只有顶部 100 埃的电子才有足够的能量到达 XPS 探测器。
首先,XPS 光谱学通常从以最高灵敏度查看全能量范围扫描的调查开始。 因此,我们可以识别和量化表面元素。 其次,我们通常使用高分辨率 XPS 分析来确定键合状态,其中我们以更高的能量分辨率使用窄扫描。 这可以从峰位置和峰形确定化学键合状态。 最后,为了确定薄膜成分,深度剖面分析很有用,因为它可以查看原子成分。
EAG 在各种应用中使用 X 射线光电子能谱来帮助各行各业的客户。 例如,通过研发、工艺开发/改进和 故障分析.
XPS光谱 项目范例
XPS分析的示例包括:
- 识别污渍和变色
- 表征清洁过程
- 分析粉末和碎片的成分
- 确定污染源
- 在处理之前和之后检查聚合物功能以识别和量化表面变化
- 获得基质水平成分和污染物的薄膜叠层(导电和非导电)的深度剖面(低至%%水平)
- 评估样品之间氧化物厚度的差异
- 测量硬盘上的润滑剂厚度
XPS光谱 总结
理想的用途
- 首先,对有机和无机材料、污渍或残留物进行表面分析
- 其次,从表面确定成分和化学状态信息
- 三、薄膜成分的深度剖析
- 此外,薄膜氧化物厚度测量(SiO2,Al2O3)
XPS的优势
- 表面上的化学状态识别
- 识别除H和He之外的所有元素
- 定量分析,包括样品之间的化学状态差异
- 适用于多种材料,包括绝缘样品(包括纸、塑料和玻璃)
- 基质水平浓度的深度剖析
- 氧化物厚度测量
XPS局限性
- 首先,检测限通常约为 0.1 at%
- 其次,最小分析面积〜10 µm
- 此外,有限的特定有机信息
- 最后,样本与特高压环境的兼容性
XPS 光谱 技术规格
- 检测到的信号:来自近表面原子的光电子
- 检测到的元素:Li-U化学键信息
- 检测限:0.1–1 at% 亚单层
- 深度分辨率:20–200 Å(剖面模式); 10–100 Å(表面分析)
- 成像/映射:是
- 横向分辨率/探针尺寸:10 µm – 2 mm
最重要的是,XPS光谱学对样品化学成分的洞察力使您能够 更快地进行产品和流程改进,使您能够缩短周期时间并节省资金。
此外,通过 EAG,您还可以使用最好的设施、仪器和科学家进行 XPS 光谱分析。 我们处理来自多个行业的许多不同材料,这为我们提供了非常广泛的经验。 最后,我们的一对一服务可确保您收到所有问题的答案。